China ha dado un paso significativo en la carrera tecnológica global al conseguir producir chips de 7 nanómetros sin acceso a la tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV), controlada principalmente por empresas occidentales como ASML. Según informa Xataka, el país ya cuenta con al menos dos fabricantes capaces de alcanzar este nivel: SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) y Hua Hong.
Este avance es especialmente relevante porque las sanciones de Estados Unidos han restringido el acceso de China a equipos avanzados de fabricación de semiconductores. A pesar de estas limitaciones, los ingenieros chinos han desarrollado métodos alternativos utilizando litografía DUV (ultravioleta profunda), una tecnología menos avanzada pero adaptada para lograr nodos más pequeños mediante múltiples patrones.
Aunque estos chips de 7 nm no alcanzan la eficiencia ni el rendimiento de los producidos con EUV por gigantes como TSMC o Samsung, el logro demuestra la capacidad de China para innovar bajo presión y reducir su dependencia tecnológica del exterior. En términos estratégicos, esto representa una mala noticia para Estados Unidos y sus aliados, que buscaban frenar el avance chino en sectores clave como la inteligencia artificial, la computación avanzada y la defensa.
El desarrollo también tiene implicaciones geopolíticas, ya que refuerza la autosuficiencia de China en un sector considerado crítico para la seguridad nacional. La capacidad de fabricar chips avanzados sin acceso a tecnología extranjera podría permitir al país mantener su crecimiento tecnológico incluso bajo un entorno de restricciones cada vez más severas.
No obstante, los expertos advierten que el proceso es más costoso y menos eficiente, lo que podría limitar su adopción masiva en productos comerciales. Aun así, el avance marca un punto de inflexión en la guerra de los semiconductores y sugiere que las sanciones podrían no ser suficientes para contener el progreso tecnológico chino a largo plazo.